c.PLASMA PECVD 系统

c.PLASMA PECVD 系统
PECVD石墨舟
晶体硅太阳能电池加工过程中的钝化与增透膜

晶体硅太阳能电池加工过程中的钝化与氮化物镀膜的批次型设备

商先创公司是晶体硅太阳能电池制造的钝化与防反射膜加工等离子增强化学气相沉积工艺(PECVD)领域的世界市场领袖。

商先创公司的全自动PECVD系统把高产量与优异的工艺稳定性和精确重复性相结合。管式炉确保了使用直接等离子沉积工艺生成极端高效与均质的防反射膜,该直接等离子沉积工艺仅仅在硅片和石墨舟之间发生,而工艺管仅仅受寄生沉积的边际影响。这就免除了反应器的定期清洗,并提高了设备可利用率。

由于其优异的工艺灵活性,该管式炉不仅是氮化物镀膜工艺的完美解决方案,而且是实现高效率太阳能电池概念(例如PERC 或无PID 太阳能电池)的完美解决方案。

该管式炉引人注目的优点之一是它的灵活性,它能适应变化多端的产能利用负荷,并确保系统在进行维修工作期间或各别的工艺管停止运行时也能继续运转。该系统具有各种各样的版本,能够进行适当配置以满足特定的工艺与产能要求并实现不同程度的自动化。由于对工艺气体最大限度的利用,商先创公司的PECVD系统需要的占地面积较小,总体拥有成本最低。

优点

  • 优异的钝化性能
  • 一体化表面处理(良好的附着力、无气泡)
  • 可变的多层与梯度层加工顺序
  • 由于冗余与短周期时间实现高利用率
  • 多达5个独立运转的石英管反应腔
  • 全自动舟输送
  • 水冷却系统防止不同炉管间的热干扰
  • 模块化设计便于安装与启动投产,并能整合到现有生产线中去

工艺流程

  • 氮化矽 (SiNx) PECVD
  • 二氧化硅 (SiOx) PECVD
  • 氮氧化物 (SiONx) PECVD
  • 氧化铝 (AlOx) PECVD
  • Multi-Layer多层
  • 其他工艺